单项选择题
在刻蚀二氧化硅过程中假如我们在CF4的()内加入适量的氢气,能够降低刻蚀的速率。
A.气体 B.等离子体 C.固体 D.液体
单项选择题 在刻蚀()过程中假如我们在CF5的等离子体内加入适量的氧气,能够提高刻蚀的速率。
多项选择题 下列物质的等离子体适合用以刻蚀铝合金中硅的有()。
单项选择题 为了避免()在经过氯化物等离子体刻蚀之后的残留物使其发生腐蚀,必须在刻蚀完毕之后再增加一道工序来除去这些表面残留物。