单项选择题 多晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对（）的高选择性。超薄的栅氧化层使得在刻蚀多晶硅电极时对栅氧化层的刻蚀要尽可能的小。

单项选择题 请在下列选项中选出多晶硅化金属的英文简称：（）。

单项选择题 请在下列选项中选出硅化金属的英文简称：（）。