单项选择题
化学气相沉积的英文名称的缩写为()。
A.LVD B.PED C.CVD D.PVD
多项选择题 ()专指薄膜形成的过程中,并不消耗晶片或底材的材质。
单项选择题 下面哪一种薄膜工艺中底材会被消耗()。
多项选择题 下列组合中哪一种基本上用于刻蚀前者的干刻蚀法大都可以用来刻蚀后者()。