问答题
什么是光刻中常见的表面反射和驻波效应？如何解决？
表面反射——穿过光刻胶的光会从晶圆片表面反射出来，从而改变投入光刻胶的光学能量。当晶圆片表面有高......
(↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)
问答题 典型的光刻工艺主要有哪几步？简述各步骤的作用。
问答题 个投影曝光系统采用ArF光源，数值孔径为0.6，设k1=0.6，n=0.5，计算其理论分辨率和焦深。
问答题 在光刻中，能够在增加分辨率的同时增加聚焦深度吗？为什么？
