问答题
比较投影掩模版和光学掩模版有何异同？说明采用什么技术形成投影掩模版上的图形？
投影掩膜版：图形可能仅包含一个管芯，也可能是几个。容易形成亚微米图形；小曝光场，需要步进重复；光学缩小，允许较大的尺寸。......
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问答题 为什么硅片热氧化结束时通常还要进行氢气或氢－氮混合气体退火？
问答题 采用提拉法（CZ法，切克劳斯基法）和区熔法制备的硅片，哪种方法质量更高，为什么？那么目前8英寸以上的硅片，经常选择哪种方式制备，为什么？
问答题 化学机械平坦化的工作机理是什么？与传统平坦化方法相比，它有哪些优点？
