问答题
简述正胶和负胶区别。
正胶：曝光的部分易溶解，占主导地位； 负胶：曝光的部分不易溶解。负胶的粘附性和抗刻蚀性能好，但分辨率低。
问答题 简述什么是光刻胶、光刻胶的用途、光刻对光刻胶的要求。
问答题 简述光刻工艺的8个基本步骤。
问答题 简述部分离子注入工艺的作用。
