问答题
简述光刻工艺步骤。
涂光刻胶，曝光，显影，腐蚀，去光刻胶。
问答题 光刻的作用是什么？列举两种常用曝光方式。
问答题 比较整版掩模和单片掩模的区别，并列举三种掩模的制造方法。
问答题 掩模在IC制造过程中有什么作用？
