填空题
集成电路制作工艺大体上可以分成三类，包括（）、（）、（）。
图形转化技术；薄膜制备技术；掺杂技术
填空题 制作电阻分压器共需要三次光刻，分别是（）、（）和（）。
问答题 解释质量输运限制CVD工艺和反应速度限制CVD工艺的区别，哪种工艺依赖于温度，LPCVD和APCVD各属于哪种类型？
问答题 离子注入后为什么要退火，高温退火和快速热处理哪个更优越，为什么？
